真空卷绕镀膜(卷对卷)是在真空下应用不同方法在柔性基体上实现连续镀膜的一种技术。它涵盖真空获得、机电控制、高精传动和表面分析等多方面内容。其重点是，在保证镀膜质量前提下提高卷绕速率、控制镀膜稳定性及实施在线监控。卷对卷技术成本低、易操作、与柔性基底相容、生产率高及可连续镀多层膜等优点。第一台真空蒸发卷绕镀膜机1935年制成，现可镀幅宽由500 至2500mm。卷对卷技术应用由包装和装饰用膜，近年逐渐扩大至激光防伪膜、导电等功能薄膜方面，是未来柔性电子等行业的主流技术之一。

真空卷绕镀膜因其大面积、低成本、连续性等特点，比间歇式镀膜有很大优势，广受国内外研究者和企业关注。当前卷绕镀膜技术进展较快，解决了镂空线、白条、褶皱等问题，开始用于制备石墨烯、有机太阳能电池和透明导电薄膜等新型功能介质与器件。

此真空磁控卷绕镀膜机，主要生产表面黄金材料。在不同厚度基材表面上镀一层80nm黄金，在真空状态下飞溅出来的黄金可以提高95%回收率，从而降低成本。

小试，可产业化应用。

真空卷绕镀膜主要有真空蒸发、磁控溅射等方式，可用于制备新型高折射率薄膜、石墨烯等纳米材料和柔性太阳能电池等半导体器件。可用于电子行业、表面装饰行业等。

真空镀金机200万，黄金靶材20万，按照基材规格6u*500mm*1000m 相当于500m²，每个平方600元*500m²=30万。

技术入股，委托开发，合作开发，面议。